SiGe and Si Strained-Layer Epitaxy for Silicon Heterostructure Devices

56,00

ISBN:
9781420066852
John D. Cressler
CRC Press
Hardback
264
39417
Drawn from the comprehensive and well-reviewed Silicon Heterostructure Handbook, this volume focuses on the materials science aspects of silicon heterostructure. It defines and details the many advances in the Si-SiGe strained-layer epitaxy for device app

Γράψτε μια κριτική

Σημείωση: δε μεταφράζεται η HTML!

Κακή            Καλή


Συνέχεια

Online Βιβλιοπωλείο ΦΑΡΟΣ

Όλες οι νέες κυκλοφορίες βιβλίων στην πόρτα σας με ένα κλικ. Εκμεταλλευτείτε τις προσφορές μας και το προσιτό κόστος αποστολής (από 2.30€ εντός Ελλάδος).

Επικοινωνία

+30 2310 525 462
+30 2310 525 984
info@pharos-books.com

Facebook